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스퍼터링 타겟
41NbNiobium92.906
NIOBIUM SPUTTERING TARGET
나이오븀 스퍼터링 타겟 (니오븀 타겟)
순나이오븀, Nb-10Zr, Nb-1Zr 타겟
전자빔 정련 잉곳
고밀도 · 균일 결정립
TFT-LCD · 터치스크린 · 유리 코팅
나이오븀(니오븀) 타겟은 전자빔으로 정련한 나이오븀 금속 덩어리(잉곳)으로 만듭니다. 제조 공정은 기계적 변형, 기계 가공(트리밍 · 평면 밀링), 진공 결정 조직을 새로 만드는 열처리(재결정 풀림), 마무리 화학 처리입니다.
타겟 밀도가 높을수록 내부 기공이 줄어 스퍼터 막의 성능이 좋아집니다. 밀도는 이온을 부딪쳐 얇은 막을 입히는 방식(스퍼터링) 속도뿐 아니라 막의 전기적 · 광학적 성질에도 영향을 주며, 밀도와 강도가 높으면 스퍼터링 중 열응력에도 잘 견딥니다.
사용 후 타겟 표면이 거울처럼 매끈하게 나올 만큼 금속 속의 작은 결정 알갱이(결정립)이 고르고 품질이 안정적입니다. Nb-10Zr 타겟과 Nb-1Zr 타겟도 같은 품질로 만듭니다.
주요 용도 Applications
디스플레이컬러 TFT-LCD 패널, 최신 터치스크린, 평판 디스플레이
광학 · 영상광학 렌즈, 전자 영상, 정보 저장
에너지태양전지, 에너지 절약 유리 표면 코팅 (반사 방지)
내식선박 · 화학 생산 등 부식 환경의 코팅
관련 제품
표의 값은 ASTM 규격 및 원본 자료 기준 참고값입니다. 실제 납품 사양은 제품별 성적서(밀시트)를 기준으로 합니다.
산업 · 연구용 소재로, 용도 적합성은 사용자가 판단해야 합니다.